當前位置:首頁 > 產品中心 > > 等離子體刻蝕與沉積設備 > Vision 410等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統
產品分類
Product Category詳細介紹
1.靈活的沉積能力
·基于硅的沉積工藝-氧化物、氮化物、氧氮化物、非晶硅(a-Si)、碳化硅(SiC)
·研究與開發
·原型制作
·小批量生產-光子學、固態照明、MEMS和納米技術
·應用領域:層間絕緣層、鈍化層、封裝層、掩模層、抗反射層
2.性能價值
1.大尺寸手動裝載載物臺(406mm)
2.出色的潔凈度
3.高均勻性
4.高吞吐量
5.可靠的軟件
6.小巧的占地面積
7.具有成本效益
8.易于維護
9.采用行業頭部組件
3.經過驗證的解決方案
·延續了PTI 790/790+的設計理念
o手動裝載,無需負載鎖(可支持批次或單片晶圓)
o已安裝超過400套系統
o技術簡單,結構堅固 價格具有競爭力,品質可靠
小巧的占地面積,節省空間
產品咨詢